迪史洁（上海）清洗设备有限公司是一家全心专注二氧化碳雪花设备研发、生产、销售为一体的个体经营。公司于2006-07-05创立以来，一直遵循产品质量为上的方针，供应的二氧化碳雪花设备严把质量关，出厂经过严格的检测程序，严格按照行业质量标准。筑产品质量大堤，迎世纪挑战。本着诚挚、灵活、务实的经营理念，迪史洁干冰雪花清洗设备致力为新老客户提供满意的服务。

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CO2雪花清洗系统使用雪花清洗激光、电阻雪花清洗、雪花清洗楔体、MAG或MIG焊接技术时，部件的不变区域需要在焊接过程前后保持清洁。由于生产和成本效益是集中的，流程、有选择性、干燥，而且可以轻松地集成到自动化生产线中。二氧化碳冰雪喷射技术满足了这些要求。

DSJet干冰雪清洁技术干冰雪花清洗测量焊接接合的质量和长期可靠性，表面有无灰和颗粒。焊接后，在准备下一个加工步骤(例如涂装或涂装)时需要清理接合处。保留通常仅用于从本地化区域中删除的事实，即常规的化学清洗方法，雪花清洗具有纵向优势 :首先，组件的不可变因素从生产线上以待清理的顺序移除。第二，工作流程及其运输容器或托盘需要三重使用能源密集型流程，清洁代理的处置或回收成本很高。后，将组件退回生产线时，它们可能会因环境因素而死。净化工艺，迪史洁二氧化碳雪喷射技术非常适合于在焊接步骤之前和之后的短周期时间内选择和复制干净组件集成到生产线上。更多CO2雪花技术咨询，产品和服务将陆续发布。

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ITO薄膜具有高透射率、低电阻率的特性，在显示器件中常用作透明电极。ITO玻璃基板表面的清洁程度，直接影响到液晶显示器件生产的成品率；对于OLED器件，lTO薄膜表面状态的影响更大。其清洗方法及表面处理工艺都将影响到ITO薄膜的特性，如化学组成、ITO表面的功函数、ITO薄膜和有机层的接触特性等，进而影响OLED的性能。因此ITO玻璃基板的清洗，要求能除去微米量级的粒子和所有的有机、无机化学物质及污迹、水迹等污染物，并要求清洗后的ITO薄膜具有良好的亲和性。

目前经常用于ITO玻璃表面处理的方法有：化学方法(酸或碱处理)和物理方法(机械抛光、热处理、氧等离子体处理、氧辉光放电及臭氧环境紫外线处理等)。本文采用的是干冰颗粒喷射清洗技术。1986年提出将此方法用于表面清洁。之后W.Gerristead等人对2英寸单晶硅基片进行干冰颗粒喷射清洗，清洗前后硅片上的杂质颗粒由538000／cm2减少到342／cm2，减少程度达99.9％；经x光电子能谱(XPS)测量，清洗前后的基片表面上碳氢化台物的含量降低了25％～30％。此外，干冰颗粒喷射清洗法用于金属、陶瓷、光学器件、聚合体表面、CMOS图像传感器也取得了很好的清洗效果

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二氧化碳已被广泛用于清洁玻璃和光学表面。这包括在涂覆光学涂层之前去除污染物，在组装之前或之后清洁表面，以及许多其他应用。我们用二氧化碳雪清洁表面。表面成分，如XPS所发现的和下面给出的，以及光学检查，表明有效清洁。从视觉上看，它们是“干净的”，这一点通过亮场和暗场图像的检查得到了验证。

超临界流体二氧化碳(CO2雪花清洗系统.

无论使用哪种方法，清洗都取决于液体二氧化碳溶剂的性质或冲击固相的能量和动量传递，或溶剂性质和动量或能量传递的组合。颗粒系统依靠宏观颗粒的高冲击速度相关的热机械冲击应力来去除污染物，这是一个动量和能量传递过程。雪喷雾依赖于高速微观雪粒子的动量传递和液态一氧化碳的溶解作用的结合。液态二氧化碳洗涤系统依赖于迪史洁 液相溶剂特性。后，超临界流体系统完全依赖二氧化碳的超临界流体特性。

重要的是，迪史洁干冰雪花清洗应用；CO2雪花表面处理、CO2雪花颗粒去除、CO2雪花烟灰去除、CO2雪花残渣去除、CO2雪花脱脂、检查前清洁和烧结金属清洁。随着我们进一了解我们的能力，我们将继续用新信息更新此列表。

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迪史洁（上海）清洗设备有限公司以诚信的经营方式、可靠规范的生产力和好的产品服务，使得我公司获得业界朋友的广泛认可。我们本着“细心发现、专心钻研、精心制造”的经营服务理念，为广大芯片行业提供可靠地二氧化碳雪花设备。产品在全国内深受广大合作客户的满意认可，我们会更加努力的为芯片行业提供质量更高、品种更全的二氧化碳雪花设备产品。

开源节流促发展，挖潜增效续辉煌。能源越来越缺乏，清洗清理设备行业的环保意识越发强化。迪史洁干冰雪花清洗设备在未来的发展中也大力倡导节能减排的产品，未来二氧化碳雪花设备会在保证原有的质量以及使用寿命的基础上更加的环保节能。符合大众市场的需求又能为地球减能，实现企业经济效益与社会效益的结合。